2024
12-19
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俄罗斯宣布自研EUV光刻机：比ASML更便宜、更容易制造！ NEW
快科技12月19日消息，据报道，俄罗斯已公布自主开发EUV（极紫外光刻）光刻机的路线图，目标是比ASML的光刻机更便宜、更容易制造。据悉，俄罗斯的自主光刻机采用11.2nm的激光光源，而非ASML标准的13.5nm。这种波长将与现有的EUV设备不兼容，需要俄罗斯开发自己的光刻生态系统，这可能需要十年或更长时间。包括电子设计自动化（EDA）工具也需要进行更新。虽然现有EDA工具仍可完成逻辑合成、布局和路由等基本步骤，但涉及曝光的关键制程，如光罩数据准备、光学邻近校正（OPC）和...
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